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立式管式爐的使用必須嚴(yán)格按照操作手冊(cè)進(jìn)行

更新更新時(shí)間:2020-01-15點(diǎn)擊次數(shù):3226
  立式管式爐的*設(shè)計(jì)能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對(duì)樣品快速升降溫,四面加熱,溫場(chǎng)更均勻,立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢,爐體垂直安裝在可移動(dòng)支架上有利于爐管取放溫度的均勻性,可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)狻⒀鯕?、一氧化碳、氨分解氣等氣體,該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn),特別適合薄膜生長(zhǎng)、電極測(cè)試、氧化物晶體生長(zhǎng)、快速退火等實(shí)驗(yàn)需要!
 
  設(shè)備采用鋼板精工制作而成,表面采用靜電噴涂,外形美觀。工作室為剛玉管,加熱元件根據(jù)溫度需要配套(硅碳棒或硅鉬棒),保溫材料采用輕質(zhì)保溫保溫加的硅酸鋁耐火纖維棉,與電爐配套的溫控部分采用PID可調(diào)智能儀表控制,可編制多個(gè)程序段,控制產(chǎn)品的燒制過(guò)程,并具有過(guò)流、限流、過(guò)熱等保護(hù)功能。
 
  主要應(yīng)用于院校實(shí)驗(yàn)室、工礦企業(yè)實(shí)驗(yàn)室,應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
 
  該設(shè)備使用必須按照操作規(guī)范進(jìn)行的同時(shí),還應(yīng)注意以下幾點(diǎn):
  1、檢查氣路是否暢通或漏氣。先將管路連接無(wú)誤后通氧氣,氧氣進(jìn)入吸收瓶后產(chǎn)生正常氣泡,表明氣路正常,否則說(shuō)明氣路有堵塞或瓷管有斷裂,應(yīng)處理正常。
  2、開(kāi)啟電源,開(kāi)啟控制器,先預(yù)置立式高溫管式爐的工作溫度為1250℃,然后調(diào)整電壓為60Ⅴ,升溫半小時(shí),然后調(diào)整電壓至100Ⅴ,再升溫半小時(shí),zui后調(diào)整電壓至150Ⅴ,升溫至溫度指示在1250℃。如不按照逐漸提高電壓并保證足夠時(shí)長(zhǎng)的方式升溫,硅碳棒和瓷管受到急熱作用而容易斷裂,因而須嚴(yán)格按本規(guī)程操作,以免造成大量材料浪費(fèi)。
  3、在工作溫度保持在1250℃左右時(shí)即可進(jìn)入樣品分析;分析結(jié)束后調(diào)整電壓歸為零位,關(guān)閉控制器開(kāi)關(guān),關(guān)閉電源,zui后關(guān)閉氧氣儀表閥門(mén)和氣瓶總閥。
 

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